Quantum Hall Effect at 0.002T #16366
Description
論文概要
超薄型の六方窒化ホウ素層で隔てられた二層グラフェン構造を用いることで、グラフェンの不均一性を大幅に低減することに成功。これにより整数量子Hall効果の特徴を、0.002Tの磁場強度で観測することに成功した。NIMSなどの研究。
論文を理解する上で重要な図など
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超薄型の六方窒化ホウ素層で隔てられた二層グラフェン構造を用いることで、グラフェンの不均一性を大幅に低減することに成功。これにより整数量子Hall効果の特徴を、0.002Tの磁場強度で観測することに成功した。NIMSなどの研究。